UV-Maskierungs-Belichtungssystem für Wafer-Proben

Sales UV-Maskierungs-Belichtungssystem für Wafer-Proben

Das UV-Masking-Belichtungssystem für Waferproben ist ein sehr kompaktes Tischsystem, perfekt monochromatisch bei 365 nm, harter und weicher Kontakt bis zu 4-Zoll-Wafern.

Produktdetail  

3D-SchnellhärtungEinfache UV-HärtungssystemeSell Offers for 3D Resin Prints ist ein  sehr kompaktes Tischsystem,  perfekt monochromatisch bei 365 nm,  harter und weicher Kontakt bis zu 4 Zoll Wafer.


UV-Maskierungs-Belichtungssystem für Wafer-Proben:

1. Sehr kompaktes Tischsystem

2. Perfekt monochromatisch bei 365 nm

3. Harter und weicher Kontakt bis zum Wafer

4. Kompatibel mit Fotolacken


UV Masking Curing Machine


1. Hauptspezifikationen

1.1 Rahmengröße: 6,8,12 Zoll

1.2 Filmarten: UV-Film

1.3 Wafer-Spezifikation: 12 Zoll oder weniger

1.4 Bestrahlungslichtquelle: LED-UV-Lichtquelle Kaltlichtquelle Wellenlänge: 365 nm。

1.5 Bestrahlungsintensität: 600-1000 mW/cm2

1.6 Platzhalter: 6,8,12 Zoll, kann zueinander wechseln

1.7 Handhabungsmodus: Manueller Take-Put

1.8 Produktpositionierung:Eine Vorrichtungsposition lässt keine Bewegung zu

1.9 Stromversorgung: 220 V 350 W 8 A

1,10 Volumen (B*L*H): 645 mm*620 mm*195 mm

1.11 Nettogewicht: 40 kg


2. Ausstattungsmerkmale

2.1 SPS + Touchscreen  Softwaresteuerung。

2.2 Bestrahlungszeiteinstellung 1-999S。

2.3 Temperaturüberwachung, über eingestellte Schutztemperatur, Alarm

2.4 Produktionskapazität: ca. 200 Stück pro Stunde

2.5 Vorspülen mit Stickstoff


3. Anwendung:

UV Masking Exposure System


LED UV Exposure Machine

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